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모형: Sulphur Hexafluoride CAS: 2551-62-4
지불 유형: L/C,T/T,Paypal
황 6 헥사 플루오 라이드 CAS : 2551-62-4 SF6 99.999% 5N 고급 전자 특수 가스
제품 사용
유황 육면 플루오 라이드 는 분자량이 146.07, 용융점 -51 ° C 및 끓는점 -64 ° C 인 무색, 무취, 무독성, 불염 성 불활성 가스입니다. 황 6 헥사 플루오 라이드의 분자 구조는 팔각형에 배열되고, 결합 거리는 작고, 결합 에너지가 높기 때문에 안정성이 높다. 전자 등급 고 화석 황 6 헥사 플루오 라이드는 이상적인 ''입니다. 황 6 헥사 플루오 라이드는 실리콘 표면을 에칭하고 반도체 재료에서 유기 또는 무기 막을 제거하는데 사용될 수 있으며, 광 섬유의 제조에 사용될 수있다.
품질 사양
Items |
Units |
Index |
(SF6)Sulfur hexafluoride |
Vol./% |
≥99.999% |
Oxygen+Argon(O2+Ar)≤ |
Vol.ppm |
≤2 |
Nitrogen(N2)≤ |
Vol.ppm |
≤2 |
Carbon tetrafluoride(CF4)≤ |
Vol.ppm |
≤1 |
Carbon monoxide(CO)≤ |
Vol.ppm |
≤0.5 |
Carbon dioxide(CO2)≤ |
Vol.ppm |
≤0.5 |
Methane(CH4)≤ |
Vol.ppm |
≤0.5 |
Moisture(H2O)≤ |
Vol.ppm |
≤3 |
Acidity(以HF计)≤ |
μg |
≤0.1 |
Hydrolytic fluoride(以HF计)≤ |
μg |
≤0.8 |
Total impurity content≤ |
μg |
≤10 |
Particle |
μg |
Supply and demand agreement |
애플리케이션
전자 등급 높은 순수한 황 육각형 헥사 플루오 라이드 는 이상적인 전자식 에칭 제로, 마이크로 일렉트로닉스 기술 분야에서 널리 사용되는 이상적인 전자 에칭제이며, 컴퓨터 칩 및 LCD와 같은 대규모 통합 회전의 제조에서 플라즈마 에칭 및 청소제로 사용됩니다. 황 6 헥사 플루오 라이드는 불소 공급원으로 사용되어 광섬유의 제조에서 불소 도핑 유리를 생성한다. 또한, 황 6 헥사 플루오 라이드는 단열 가스, 트레이서 제 및 냉매로서 사용될 수있다.
포장 、 스토리지
유황 6 헥사 플루오 라이드는 표준 원활한 실린더에 저장되며, 일반적으로 실린더 부피는 40L이고, 실린더의 유형은 CGA590 QF-2이고, 실린더 압력은 8.0mpa 및 12.5mpa입니다. 특정 포장 사양은 사용자 요구 사항에 따라 사용자 정의 할 수 있습니다. 황 육각형 플루오 라이드는 화재와 열원에서 멀리 떨어진 그늘고 통풍이 잘되는 창고에 저장되며, 창고의 온도는 30 °를 초과하지 않습니다. 염증성 (가연성) 및 산화제와 별도로 저장해야합니다. 저장 구역에는 응급 장비가 장비되어 있어야합니다.
제품 디렉토리 : 반도체 전자 화학 물질 > 불소 함유 고순도 전자 특수 가스
모바일 사이트
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