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반도체/웨이퍼 에칭 재료

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C4F6 헥사 플루오로 -1 3- 부타디엔 4N 칩 에칭 제

단가: USD 500 / Gram

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C4F6 CAS : 685-63-2 헥사 플루오로 -1 3- 부타디엔 99.99% 4N 칩 에칭제 제품 사용 Hexafluoro-1,3- 부타디엔 (C 4 F 6 )은 일종의 무색, 무취 및 물 불용성 가스입니다. 정상 온도 및 압력에서, 용융점은 132.0 ℃이고, 끓는점은 5.9 ℃이다. hexafluoro-1,3- 부타디엔은 6 개의 불소 원자와 2 개의 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 일종의 공액 올레핀이다. 에칭 가스, 고유 한...

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NF3 질소 트리 플루오 라이드 고순도

단가: USD 500 / Gram

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NF3 질소 트리 플루오 라이드 CAS : 7783-54-2 99.5% 전자에 대한 순도 특수 가스 에칭 제품 사용 질소 트리 플루오 라이드 (NF3)는 일종의 무색, 무취 및 특성 안정 가스이며 일종의 강한 산화제입니다. 녹는 점은 206.8 ℃이고, 비등점은 129.0 ℃이며, 물에 불용성이 없다. 미세 전자 산업의 질소 트리 플루오 라이드는 혈장 에칭 과정에서 활성 불소 이온으로 갈라진 일종의 우수한 혈장 에칭 가스입니다. 실리콘 및...

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수소 불화물 HF -Hight 순도

단가: USD 500 / Gram

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불소 CAS : 7664-39-3 HF 99.999% 웨이퍼 에칭 재료 에 대한 순도 제품 사용수소 플루오르 산으로도 알려진 수소 불화물 (HF)은 분자량이 20.01이며 무색의 투명한 액체입니다. 공중에서 담배를 피우고 매운 냄새가납니다. 이는 일반적인 금속, 금속 산화물 및 수산화물과 반응하여 다양한 염을 형성 할 수 있습니다. 히드로겐 불소는 매우 부식성이며 유리와 규산염을 부식시켜 기체 실리콘 테트라 플루오 라이드를 생성 할 수...

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혈장 에칭을위한 schwefeltetrafluorid sf4 2n

단가: USD 500 / Gram

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Schwefeltetrafluorid CAS : 7783-60-0 SF4 99% 2N 혈장 에칭 및 의료 중간체 제품 사용 유기 형광 화제 Schwefeltetrafluorid (SF4)는 선택적 유기 형광 화제이다. 황 테트라 플루오 라이드는 수분이 발생할 때 하이드로 플루오 산과 유사한 부식을 유발합니다. 그것은 이산화황과 하이드로 플루오르 산으로 완전히 가수 분해 될 것이며, 부분적으로 가수 분해되면 독성 티오닐 플루오 라이드를 생성 할...

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Perfluoropropane 반도체 에센트 C3F8 고순도 5n

단가: USD 500 / Gram

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Perfluoropropane CAS : 76-19-7 반도체 Etchant C3F8 고순도 99.999% 5N 칩 에칭 재료 제품 소개 Perfluoropropane (C 3 F 8 )은 일종의 무색, 무취, 불꽃이없는 불활성 가스입니다. 정상 온도와 압력에서는 용융점이 183.0 ℃이고 끓는점은 36.7 ℃이며 물에 잘 어울립니다. 옥타 플루오로 프로판은 heptafluoropropane 및 불소 가스의 반응에 의해 생성 된 다음, 정제...

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요오도 리플 루오로 메탄 99.99% 4N CF3I 고순도

단가: USD 500 / Gram

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요오도 리플 루오로 메타 네카스 2314-97-8 99.99% 4N CF3I 반도체에 대한 고순도 퇴치 공정 재료 제품 사용 요오드 리플 루오로 메탄은 반도체 에칭 가스, 전기 장비 절연 및 아크 소화 가스, 소화제, 냉매 등으로 사용될 수 있습니다. 또한 트리 플루오로 메틸 요오드 라이드는 또한 유기 금속 시약과 상호 작용할 수 있습니다. 유기 합성에서 플루오로 메틸의 도입을위한 중요한 불소 함유 중간체이다. 유기 합성, 생화학, 살충제,...

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C3F8 옥타 플루오로 프로판 고순도 웨이퍼 에칭 재료

단가: USD 500 / Gram

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C3F8 Octafluoropropane CAS : 76-19-7 99.999% 고순도 웨이퍼 에칭 재료 제품 사용 크세논 디 플루오 라이드는 중성 또는 알칼리성 용액에서 분해되며 산성 용액에서 비교적 안정적이다. 수성 용액은 매운 냄새를 갖는다. 크세논 디 플루오 라이드 증기는 무색이며 구역질 악취가 있습니다. 전자 산업에서 XEF2는 종종 실리콘의 에칭 가스로 사용됩니다. XEF2와 실리콘 사이의 화학적 반응은 자발적 반응이기 때문에,...

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반도체 에칭을위한 크세논 디 플루오 라이드 XEF2

단가: USD 500 / Gram

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Xenon Difluoride CAS : 13709-61-0 XEF2 반도체 에칭 용 99.9% 3N 제품 사용 크세논 디 플루오 라이드는 중성 또는 알칼리성 용액에서 분해되며 산성 용액에서 비교적 안정적이다. 수성 용액은 매운 냄새를 갖는다. 크세논 디 플루오 라이드 증기는 무색이며 구역질 악취가 있습니다. 전자 산업에서 XEF2는 종종 실리콘의 에칭 가스로 사용됩니다. XEF2와 실리콘 사이의 화학적 반응은 자발적 반응이기 때문에,...

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중국 반도체/웨이퍼 에칭 재료 공급 업체

ZSEM 에칭 재료의 혁신은 지속적인 성장의 어려운 요구 사항을 충족하며, 이제는 칩 공장에 서비스를 제공하고 끊임없는 크기의 웨이퍼 칩을 만들기 위해 다양한 고급 불소 함유 가스를 생산할 수 있습니다.

우리 회사에 의해 제조 된 에칭 가스는 일반적으로 붕소 트리클로라이드 11, 퍼플 루오로 부타디엔, 카르 보닐 불소, 트리 플루오로 요오 오도 메탄, Xenon 디 플루오 라이드, 옥타 플루오로 프로판, 질소 트리 플루오 라이드, 탄소 테트라 플루오 라이드, 고순도 수소화물 등을 포함한 불소 가스입니다.

기존의 효소 생산
기존의 효소 생산은 주로 손으로 손잡이, 손으로 발효되며, 프로세스의 모든 단계는 자체 개발 된 기술 및 장비를 사용하여 생산을 자동화합니다. 더욱 발효, 순수한 맛, 스트렙토 조 토신 균형 영양소.

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