Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd
모형: Nitrogen trifluoride CAS: 7783-54-2
지불 유형: L/C,T/T,Paypal
질소 트리 플루오 라이드 CAS : 7783-54-2 NF3
99.5%혈장 에칭 가스
제품 소개
질소 트리 플루오 라이드 (NF 3 )는 일종의 무색, 무취 및 특성 안정 가스이며 일종의 강한 산화제입니다. 정상 온도 및 압력에서, 용융점은 206.8 ℃이고, 비등점은 129.0 ℃이며, 물에 불용성이 없다. 미세 전자 산업의 질소 트리 플루오 라이드는 혈장 에칭 과정에서 활성 불소 이온으로 갈라진 일종의 우수한 혈장 에칭 가스입니다. 실리콘 및 실리콘 질화물의 혈장 에칭의 경우, 질소 트리 플루오 라이드를 사용하는 경우, 특히 1.5 μm 미만의 두께와 통합 회로 재료를 에칭하는 과정에서 탄소 테트라 플루오 라이드 또는 탄소 테트라 플루오 라이드 및 산소 혼합 가스를 사용하는 것보다 에칭 속도와 선택성이 높다. 질소 트리 플루오 라이드는 우수한 에칭 속도와 선택성을 가지고 있습니다. 또한 에칭 된 재료의 표면에는 오염이 없으며 훌륭한 세척제이기도합니다.
품질 사양
|
Project |
Unit |
index |
||||
|
（NF3）≥ |
Vol.% |
99.5 |
99.9 |
99.98 |
99.99 |
99.996 |
|
（CF4）≤ |
Vol.ppm |
1500 |
500 |
100 |
50 |
20 |
|
（N2）≤ |
Vol.ppm |
700 |
50 |
10 |
10 |
5 |
|
（O2+Ar））≤ |
Vol.ppm |
700 |
50 |
10 |
5 |
3 |
|
（CO）≤ |
Vol.ppm |
50 |
10 |
10 |
5 |
1 |
|
（CO2）≤ |
Vol.ppm |
25 |
10 |
10 |
5 |
0.5 |
|
（N2O）≤ |
Vol.ppm |
50 |
10 |
10 |
5 |
1 |
|
（SF6）≤ |
Vol.ppm |
50 |
50 |
10 |
5 |
2 |
|
Hydrolyzable fluoride （Measured by HF）≤ |
Vol.ppm |
1 |
1 |
1 |
1 |
1 |
|
（H2O）≤ |
Vol.ppm |
1 |
1 |
1 |
1 |
1 |
애플리케이션
질소 트리 플루오 라이드는 고 에너지 화학 레이저 가스의 불소 공급원 및 폴리 실리콘, 실리콘 질화물 및 텅스텐 실살과 같은 반도체 물질의 에칭 제로 사용될 수있다. 또한 화학 증기 증착 챔버 및 LCD 패널의 세정제로 사용될 수 있습니다. 질소 트리 플루오 라이드는 CVD 박스의 세척제로 사용되며, 이는 퍼플 루오로 카본에 비해 오염 물질 방출을 90% 줄이고 청소 속도 및 청소 용량을 크게 향상시킬 수 있습니다.
포장 및 저장
질소 트리 플루오 라이드는 각각 8L, 40L, 43.3L 및 47L의 부피를 갖는 강철 원활한 실린더에 채워진다. 실린더의 모델은 DOT-3AA, GB 5099이며 실린더의 압력은 9.0-13.0MPA입니다. 포장 사양은 고객의 요구 사항에 따라 사용자 정의 할 수 있습니다.
제품 디렉토리 : 반도체 전자 화학 물질 > 불소 함유 고순도 전자 특수 가스
모바일 사이트
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