Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd
모형: Xenon Difluoride CAS: 13709-61-0
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Xenon Difluoride CAS : 13709-61-0 XEF2 반도체 에칭 용 99.9% 3N
크세논 디 플루오 라이드는 중성 또는 알칼리성 용액에서 분해되며 산성 용액에서 비교적 안정적이다. 수성 용액은 매운 냄새를 갖는다. 크세논 디 플루오 라이드 증기는 무색이며 구역질 악취가 있습니다. 전자 산업에서 XEF2는 종종 실리콘의 에칭 가스로 사용됩니다. XEF2와 실리콘 사이의 화학적 반응은 자발적 반응이기 때문에, XEF2는 실리콘의 에칭 과정에서 매우 높은 선택성을 갖는다. XEF2에 의한 실리콘을 에칭하는 과정에서, XEF2 가스는 실리콘 기판의 표면으로 자유롭게 확산되고, 최후의 실리콘 원자와 화학적으로 반응하여 기체 XE 및 기체 SIF4를 생성함으로써 실리콘의 부식이 실현된다.
제품 매개 변수
|
Xenon difluoride（XeF2）≥ |
Vol.% |
99.9 |
|
Kalium（K）≤ |
mg/kg |
0.18 |
|
Calcium（Ca）≤ |
mg/kg |
0.15 |
|
Sodium（Na）≤ |
mg/kg |
0.70 |
|
Magnesium（Mg）≤ |
mg/kg |
0.12 |
|
Aluminum（Al）≤ |
mg/kg |
0.17 |
|
Zinc（Zn）≤ |
mg/kg |
0.30 |
|
Iron（Fe）≤ |
mg/kg |
1.21 |
|
Plumbum（Pb）≤ |
mg/kg |
0.07 |
|
Cuprum（Cu）≤ |
mg/kg |
0.05 |
|
Chromium（Cr）≤ |
mg/kg |
0.15 |
|
（Mn）≤ |
mg/kg |
0.04 |
|
Manganese（Mo）≤ |
mg/kg |
0.15 |
|
Nickel（Ni）≤ |
mg/kg |
0.83 |
|
Phosphorus（P）≤ |
mg/kg |
0.14 |
애플리케이션
Xenon Difluoride는 일종의 선택적 플 루리 디저이며, 무기 불소 및 유기 합성의 제조에 널리 사용되지만 가스 상 및 비-퀴어스 용액에서만 플루리 디저로 사용될 수 있으며 수성 용액으로 만 산화제로 사용할 수 있습니다. 또한 XEF 2는 일반적으로 전자 산업에서 실리콘의 에칭 가스로 사용됩니다.
포장 、 스토리지
크세논 디 플루오 라이드는 안정적인 화합물이며 니켈 용기 또는 알루미늄 합금 원활한 실린더에 오랫동안 저장 될 수 있습니다. 과학 연구 기관과 기업의 다양한 요구 사항을 충족시키기 위해 포장 사양에는 100G, 500G, 1kg, 2kg 및 5kg 등이 포함됩니다. 특정 포장 사양은 사용자 요구 사항에 따라 사용자 정의 할 수 있습니다. 크세논 디 플루오 라이드는 산화제 、 식품 화학 물질과 분리 된 그늘고 환기 된 창고에 저장되어야합니다.
제품 디렉토리 : 반도체 전자 화학 물질 > 반도체/웨이퍼 에칭 재료
모바일 사이트
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