Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd
모형: Iodotrifluoromethane CAS:7783-58-6
지불 유형: L/C,T/T,Paypal
요오도 리플 루오로 메타 네카스 2314-97-8 99.99% 4N CF3I 반도체에 대한 고순도 퇴치 공정 재료
제품 사용
요오드 리플 루오로 메탄은 반도체 에칭 가스, 전기 장비 절연 및 아크 소화 가스, 소화제, 냉매 등으로 사용될 수 있습니다. 또한 트리 플루오로 메틸 요오드 라이드는 또한 유기 금속 시약과 상호 작용할 수 있습니다. 유기 합성에서 플루오로 메틸의 도입을위한 중요한 불소 함유 중간체이다. 유기 합성, 생화학, 살충제, 의학, 계면 활성제 및 염료 등에 널리 사용될 수 있습니다.
제품 매개 변수
|
No. |
Ingredients |
Index |
||
|
1 |
Trifluoromethyl iodide (CF3I),%(V/V) ≥ |
99 |
99.9 |
99.99 |
|
2 |
Oxygen+argon (O2+Ar), ppmv ≤ ≤ |
300 |
50 |
10 |
|
3 |
Nitrogen (N2), ppmv ≤ ≤ |
1200 |
200 |
15 |
|
4 |
Carbon monoxide (CO), ppmv ≤≤ |
1000 |
100 |
15 |
|
5 |
Carbon dioxide (CO2), ppmv ≤ ≤ |
1000 |
100 |
5 |
|
6 |
Trifluoromethane (CF3H), ppmv ≤ |
3200 |
350 |
25 |
|
7 |
Trifluorobromomethane (CF3Br), ppmv ≤ |
3200 |
200 |
20 |
|
8 |
Water (H2O), ppmv ≤ |
100 |
50 |
10 |
제품 디렉토리 : 반도체 전자 화학 물질 > 반도체/웨이퍼 에칭 재료
모바일 사이트
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